হোলসাল গ্রাফাইট ইলেক্ট্রোড 200 মিমি 300 মিমি 400 মিমি 500 মিমি আরপি এইচপি ইউএইচপি গ্রাফাইট ইলেক্ট্রোড ইস্পাত তৈরির জন্য

UHপি গ্রাফাইট ইলেক্ট্রোড
আইটেম	ইউনিট	ব্যাস
আইটেম	ইউনিট	Φ300	Φ300-Φ350	Φ400-Φ500	Φ550	Φ600	Φ650-Φ700
বৈদ্যুতিক প্রতিরোধ ক্ষমতাএর চেয়ে কম বা সমান	μΩm	5.50	5.50	5.50	5.50	5.50	5.50
নমনীয় শক্তিবৃহত্তর বা সমান	এমপিএ	12.00	12.00	12.00	12.00	12.00	12.00
স্থিতিস্থাপকতার মডুলাসএর চেয়ে কম বা সমান	জিপিএ	8.00	8.00	8.00	8.00	8.00	8.00
বাল্ক ঘনত্ববৃহত্তর বা সমান	জি/সেমি³	1.69	1.69	1.69	1.69	1.69	1.69
সিটিই (100-600ºC) এর চেয়ে কম বা সমান	x10^-6/ºC	1.40	1.40	1.40	1.40	1.40	1.40
ছাই সামগ্রীএর চেয়ে কম বা সমান	%	0.30	0.30	0.30	0.30	0.30	0.30

উদ্ধৃতি জন্য আমাদের সাথে যোগাযোগ করতে স্বাগতম।

ইমেল: info@zaferroalloy.com

500 মিমি ইলেক্ট্রোলাইসিস গ্রাফাইট ইলেক্ট্রোডগুলি কীভাবে শিল্প প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যবহৃত হয়?

500 মিমি বৈদ্যুতিন বিশ্লেষণ গ্রাফাইট ইলেক্ট্রোডগুলি বিভিন্ন বৈদ্যুতিন রাসায়নিক প্রক্রিয়াগুলিতে যেমন অ্যালুমিনিয়াম গন্ধ, ক্লোরিন উত্পাদন এবং জলের বৈদ্যুতিন বিশ্লেষণে একটি প্রয়োজনীয় ভূমিকা পালন করে।

অ্যালুমিনিয়াম তড়িৎ বিশ্লেষণে, উদাহরণস্বরূপ, এই বৃহত - ব্যাসের ইলেক্ট্রোডগুলি হল - হ্যারোল্ট কোষগুলিতে ব্যবহৃত হয় যেখানে তারা অ্যানোড হিসাবে পরিবেশন করে যা গলিত ক্রিওলাইটে দ্রবীভূত অ্যালুমিনাম থেকে অ্যালুমিনিয়াম নিষ্কাশন করার জন্য বিদ্যুৎ পরিচালনা করে। 500 মিমি আকার উচ্চ - এম্পেরেজ পরিবেশে বৃহত্তর বর্তমান বিতরণ এবং অপারেশনাল স্থিতিশীলতার জন্য অনুমতি দেয়।

এই ইলেক্ট্রোডগুলি তাপীয় শক, জারা এবং ইলেক্ট্রোলাইট থেকে রাসায়নিক আক্রমণ প্রতিরোধের জন্য উচ্চ -} ঘনত্ব, নিম্ন - পোরোসিটি গ্রাফাইট থেকে তৈরি করা হয়। তাদের স্থায়িত্ব এবং পরিবাহিতা অপারেশনাল ব্যয় হ্রাস করতে এবং তড়িৎ বিশ্লেষণ প্রক্রিয়াটির দক্ষতা উন্নত করতে সহায়তা করে। তদুপরি, 500 মিমি গ্রাফাইট ইলেক্ট্রোডগুলি দীর্ঘতর পরিষেবা জীবন এবং ধারাবাহিক কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে চরম পরিস্থিতিতে কাঠামোগত অখণ্ডতা বজায় রাখতে ইঞ্জিনিয়ার করা হয়। বড় - স্কেল বৈদ্যুতিন রাসায়নিক রূপান্তরগুলির জন্য লক্ষ্য করে শিল্পগুলিতে তাদের ব্যবহার অত্যাবশ্যক, যেখানে বৈদ্যুতিন নির্ভরযোগ্যতা সরাসরি উত্পাদনশীলতা এবং আউটপুট গুণমানকে প্রভাবিত করে।